Spectroscopic characterization of thermally treated Si-rich oxynitride films deposited by PECVD on silicon substrate

Spectroscopic characterization of thermally treated Si-rich oxynitride films deposited by PECVD on silicon substrate

MARIOTTO, Gino;Daldosso, Nicola;
2004-01-01

Abstract

Spectroscopic characterization of thermally treated Si-rich oxynitride films deposited by PECVD on silicon substrate
2004
Raman; silicon nanocrystals; luminescence
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